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  1. 紀要論文
  2. 広島工業大学紀要. 研究編
  3. 56

プラズマイオン注入法を用いた薄膜形成、および表面処理

https://it-hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/1152
https://it-hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/1152
efd6961d-f52e-4f76-826b-0e8ca0d2a45e
名前 / ファイル ライセンス アクション
research56_145-154.pdf research56_145-154.pdf (2.9 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2023-03-30
タイトル
タイトル プラズマイオン注入法を用いた薄膜形成、および表面処理
タイトル
タイトル Thin film formation and surface treatment using plasma ion implantation method
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
主題Scheme Other
主題 plasma based ion implantation, plasma density, oxygen, nitrogen
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
著者 田中, 武

× 田中, 武

田中, 武

ja-Kana タナカ, タケシ

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Takeshi, TANAKA

× Takeshi, TANAKA

en Takeshi, TANAKA

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 In the PBII method, the ion density in the sheath could be obtained based on the modulator equivalent circuit. In the PBII method, the self-ignitting plasma used in the sterilization process was formed, and the plasma density and sheath length could be calculated from the obtained discharge current-high voltage voltage waveform. Using this method, some of the important parameters such as plasma density and sheath length could be obtained when designing the equipment in the future.
書誌情報 広島工業大学紀要. 研究編

巻 56, p. 145-154, 発行日 2022-03
出版者
出版者 広島工業大学
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 13469975
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA11599110
権利
権利情報 publisher
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
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Ver.1 2023-07-25 10:32:27.817370
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