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  1. 紀要論文
  2. 広島工業大学研究紀要
  3. 29

RF-DC 結合電源を用いたSnO2表面の水素プラズマ耐性改善

https://it-hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/552
https://it-hiroshima.repo.nii.ac.jp/records/552
b6a01cb9-da49-4ebd-a40a-43e453ad70a7
名前 / ファイル ライセンス アクション
kenkyukiyo29029.pdf kenkyukiyo29029.pdf (214.7 kB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2023-03-30
タイトル
タイトル RF-DC 結合電源を用いたSnO2表面の水素プラズマ耐性改善
タイトル
タイトル Improvement of the Hydrogen Plasma Durability of SnO2 Surface by using RF-DC Coupled Power Supply
言語 en
言語
言語 jpn
キーワード
主題Scheme Other
主題 SnO2
キーワード
主題Scheme Other
主題 X-ray photoelectron spectroscopy
キーワード
主題Scheme Other
主題 solar cel
キーワード
主題Scheme Other
主題 hydrogen plasma exposure.
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
著者 田中, 武

× 田中, 武

田中, 武

ja-Kana タナカ, タケシ

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川畑, 敬志

× 川畑, 敬志

川畑, 敬志

ja-Kana カワバタ, ケイシ

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Tanaka, Takeshi

× Tanaka, Takeshi

en Tanaka, Takeshi

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Kawabata, Keishi

× Kawabata, Keishi

en Kawabata, Keishi

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抄録
内容記述タイプ Abstract
内容記述 R. F. power and d. c. bias were simultaneously applied to an electrode in a conventional plasma chemical vapor deposition (PCVD) system in order to suppress the reduction reaction of SnO2 induced by a hydrogen-containing plasma. It was found that the position of the positive column on the substrate was shifted to the rf electrode by increasing dc bias voltage. As a result, the reduction reaction of the SnO2 surface exposed to hydrogen plasma is dramatically suppressed.
書誌情報 広島工業大学研究紀要

巻 29, p. 29-33, 発行日 1995
出版者
出版者 広島工業大学
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 03851672
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AN0021271X
フォーマット
内容記述タイプ Other
内容記述 application/pdf
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
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Ver.1 2023-07-25 10:46:32.482901
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